Q-POD Element終端精製器

詳細資料

Q-POD Element終端精製器詳細介紹

測量技術和檢測技術的新近發展極大地提高了現代分析儀(yi) 器的靈敏度。使用諸如ICP-MS技術，可以在ppt或亞(ya) ppt水平檢測痕量元素。
這些低檢測限水平技術有多種新應用，例如元素指紋識別，可用於(yu) 法醫學、食品飲料工業(ye) 和天體(ti) 地質學等眾(zhong) 多不同的領域。
低檢測限水平意味著須多加注意實驗設備、操作人員、實驗室環境以及所用的樣品容器，因為(wei) 這些因素都可能影響實驗結果。
分析過程中使用的超純水也是一樣。由於(yu) 樣品製備需要溶解和稀釋過程，因此使用這些靈敏技術分析的樣品中90%以上是高純度的純水。高純度的純水還用於(yu) 清洗裝樣品的容器，清洗塑料器具，製備空白和標準溶液。
進行痕量分析的實驗室必須有可靠的超純水來源，且該超純水必須始終保持低的元素濃度。
專(zhuan) 門設計的Q-POD Element ，與(yu) Milli-Q Integral或Milli-Q Advantage超純水純化係統聯合使用，可以達到此目的。Q-POD Element終端精製器的設計是由精通IC、ICP-MS以及GF-AAS等痕量分析方法的科學家開發的。



Q-POD Element終端精製器技術參數：

電阻率 18.2MΩ-cm @ 25℃
元素水平 ppt或亞(ya) ppt級（參見元素列表）
顆粒 < 1/l（=""> 0.5 μm）
矽 < 1="" ppb="">
TOC < 5="">
細菌 < 0.01="" cfu="">